磁控濺射離子鍍，將磁控濺射和離子鍍結合起來的鍍膜工藝。其原理是：在真空室充入氬氣，並在磁控濺射靶材上施加負偏壓，氬離子在電場作用下轟擊靶面，被濺射出來膜料原子向工件遷移過程中部分被電離，並在基板負偏壓作用下加速運動，最終在工件上沉積成膜。
基本介紹
- 中文名：磁控濺射離子鍍
- 定義：將磁控濺射和離子鍍結合起來的鍍膜工藝
磁控濺射離子鍍，將磁控濺射和離子鍍結合起來的鍍膜工藝。其原理是：在真空室充入氬氣，並在磁控濺射靶材上施加負偏壓，氬離子在電場作用下轟擊靶面，被濺射出來膜料原子向工件遷移過程中部分被電離，並在基板負偏壓作用下加速運動，最終在工件上沉積成膜。
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（1）薄膜材料研究：納米薄膜、多層膜、薄膜性能研究 （2）電漿基離子注入：裝置及工藝研製 （3）離子鍍技術：磁控濺射離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍技術 （4）電漿化學熱處理 （5）材料表面改性的計算機模擬、檢測與控制...
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