磁控濺射薄膜制樣系統

磁控濺射薄膜制樣系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年12月19日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁控濺射薄膜制樣系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2015年12月19日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

500W射頻、1000W脈衝直流、350攝氏度基片加熱、4組3英寸載台，2組2英寸靶位。

主要功能

通過物理氣相沉積結合射頻電源，能夠高效地製備高均勻度、成分厚度可控的薄膜材料。