薄膜濺射沉積系統

薄膜濺射沉積系統是一種用於統計學領域的分析儀器，於2016年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：薄膜濺射沉積系統
• 產地：中國
• 學科領域：統計學
• 啟用日期：2016年12月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

本底真空：10e-8 torr；成膜均勻性＜3%；同時裝載5個靶位。

主要功能

可用於製作鐵磁材料薄膜、氧化物薄膜等。