真空環境下光學薄膜的雷射損傷

《真空環境下光學薄膜的雷射損傷》是 北京理工大學出版社出版的圖書

內容簡介,

內容簡介


《真空環境下光學薄膜的雷射損傷》試圖在總結過去研究工作的基礎上闡述光學薄膜在真空和空間環境中雷射損傷特性及其損傷機理和改進技術。《真空環境下光學薄膜的雷射損傷》共分為8章。第1章介紹了真空環境下光學薄膜雷射損傷研究發展現狀及存在的問題,是全書的鋪墊。第2章介紹了真空環境下光學薄膜特性表征及損傷測試系統與測試方法,為科學、客觀、深入地研究真空環境下光學薄膜的損傷規律及損傷機理奠定堅實的基礎。第3章介紹了真空環境下常用光學薄膜的損傷特性和規律:真空環境下光學薄膜抗雷射損傷能力的降低有本徵因素,也有外在因素。在密閉真空或空間雷射系統中由於封裝材料的放氣而產生的有機污染物分子是真空與空間環境中光學薄膜元件抗雷射損傷能力降級的重要原因,因此第4章和第5章分別從內因和外因兩個方面闡述了真空環境下光學薄膜的本徵損傷機理和有機污染誘導光學薄膜的損傷機理。內容包括真空環境中光學薄膜在雷射輻照下光、熱、力耦合損傷過程,缺陷誘導損傷過程以及有機污染誘導光學薄膜的雷射損傷過程,真空環境下光學薄膜的本徵損傷機理以及有機污染誘導光學薄膜雷射損傷的機理。第6章和第7章闡述了熱退火和雷射預處理兩種後處理方法對真空環境下光學薄膜雷射損傷的影響,介紹了幾種改善真空環境中光學薄膜元件抗雷射損傷降級的技術方法。第8章對全書內容做了總結,也提出後續研究工作的建議。

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