直流三極濺射,採用直流電源,在二極濺射的基礎上,增加一個發射熱電子的熱陰極,形成直流三極的濺射鍍膜方法。若再另設一電子收集極,則為四極濺射鍍膜。
基本介紹
- 中文名:直流三極濺射
- 所屬學科:物理
直流三極濺射,採用直流電源,在二極濺射的基礎上,增加一個發射熱電子的熱陰極,形成直流三極的濺射鍍膜方法。若再另設一電子收集極,則為四極濺射鍍膜。
直流三極濺射,採用直流電源,在二極濺射的基礎上,增加一個發射熱電子的熱陰極,形成直流三極的濺射鍍膜方法。若再另設一電子收集極,則為四極濺射鍍膜。...
濺射工藝圖如圖1所示,濺射鍍膜最初出現的是簡單的直流二極濺射,它的優點是裝置簡單,但是直流二極濺射沉積速率低;為了保持自持放電,不能在低氣壓(<0.1 Pa)下進行;不能濺射絕緣材料等缺點限制了其套用。在直流二極濺射裝置中增加一個熱陰極和輔助陽極,就構成直流三極濺射。增加的熱陰極和輔助陽極產生的熱...
離子濺射台 離子濺射台是一種用於物理學領域的分析儀器,於2016年06月30日啟用。技術指標 500mm(直徑) x 600mm(高) 的不鏽鋼內腔,具有前道打開的門和滿室。主要功能 磁控濺射台,用於高真空級別的渦輪或低溫泵。
熱陰極直流濺射(三極型濺射)是藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。熱陰極直流濺射(三極型濺射)hotcathodedirectcurrentsputtering:藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的...
熱陰極直流濺射 熱陰極直流濺射(三極型濺射)hotcathodedirectcurrentsputtering:藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。
電壓波形是非對稱的矩形波的濺射方法稱為脈衝濺射;電壓波形是對稱的方波或正弦波稱交流濺射。在一個給定電場強度下,頻率越高,濺射產額越低。實驗發現在頻率為60kHz、80kHz、500kHz和13.5MHz時的濺射產額分別為直流濺射時的100%、85%、70%和55%,通常取10--80kHz。因此也稱交流濺射為中頻濺射。中頻濺射常用於...
偏壓濺射 偏壓濺射是2013年公布的機械工程名詞。 定義 在濺射過程中,將負偏壓施加於基片以及膜層的濺射。 出處 《機械工程名詞》。
鋁靶材是用於真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工後的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。名稱 鋁靶材 物理性質 用途 適用於直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、...
3.4 直流二極濺射 3.5 直流三極或四極濺射 3.6 磁控濺射 3.6.1 磁控濺射工作原理 3.6.2 磁控濺射鍍膜的特點 3.6.3 磁控濺射鍍膜工藝特性 3.6.4 平面磁控濺射靶 3.6.5 圓柱形磁控濺射靶 3.6.6 傳統平面磁控濺射靶存在的問題 3.7 射頻(RF)濺射 3.7.1 射頻濺射鍍膜原理 3.7....
銅靶材是真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純銅材料經過系列加工後的產品,具有特定的尺寸和形狀高純銅材料。由於高純銅特別是超高純銅具有許多優良的特性,已廣泛套用於電子、通信、超導、航天等尖端領域。物理性質 產品用途 適用於直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等,...