《物理氣相沉積TiN薄膜技術條件(GB/T 18682-2002)》的附錄A、附錄B、附錄C、附錄D、附錄E、附錄F為規範性附錄。由中國機械工業聯合會提出。由全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術委員會歸口。負責起草單位：武漢材料保護研究所。參加起草單位：鋼鐵研究總院、中科院力學研究所、中國航科集團公司五一一研究所、成都工具研究所、中科院蘭州化學物理研究所、蘭州真空設備有限責任公司、長沙科航新型表面技術研究所。主要起草人：凌國偉、李健、倪瀚、黃濟群、曲學基、紀曉春、秦襄培。
基本介紹
- 外文名：Specifications of Physical Vapour Deposition TiN Films
- 書名：物理氣相沉積TiN薄膜技術條件
- 出版日期：2002年8月1日
- 語種：簡體中文
- ISBN：155066118611
- 出版社：中國標準出版社
- 頁數：20頁
- 開本：16
內容簡介,作者簡介,圖書目錄,
內容簡介
《物理氣相沉積TiN薄膜技術條件(GB/T 18682-2002)》由中國標準出版社出版。
作者簡介
中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局
圖書目錄
前言
1範圍
2規範性引用檔案
3術語和定義
4技術要求
5性能及試驗方法
附錄A（規範性附錄）鍍膜前零件表面質量控制技術要求
附錄B（規範性附錄）物理氣相沉積技術用鈦靶
附錄C（規範性附錄）物理氣相沉積TiN設備的真空技術要求
附錄D（規範性附錄）膜厚度測量方法
附錄E（規範性附錄）物理氣相沉積TiN薄膜防腐能力試驗方法
附錄F（規範性附錄）物理氣相沉積TiN薄膜摩擦學性能試驗方法
1範圍
2規範性引用檔案
3術語和定義
4技術要求
5性能及試驗方法
附錄A（規範性附錄）鍍膜前零件表面質量控制技術要求
附錄B（規範性附錄）物理氣相沉積技術用鈦靶
附錄C（規範性附錄）物理氣相沉積TiN設備的真空技術要求
附錄D（規範性附錄）膜厚度測量方法
附錄E（規範性附錄）物理氣相沉積TiN薄膜防腐能力試驗方法
附錄F（規範性附錄）物理氣相沉積TiN薄膜摩擦學性能試驗方法
