浙江大學光電工程研究所的前身是浙江大學光學與光電子薄膜研究所。光學與光電子薄膜作為光學系統中的一個重要組成部分，在現代光電信息技術中發揮著日益重要的作用，尤其是在光通信、光電顯示、光存貯、影像儀器中，光學薄膜已成為關鍵技術之一。本研究所是國內最早開始光學薄膜研究的研究所之一，歷經幾十年的研究發展，幾代人的努力，在光學與光電子薄膜設計理論、薄膜製備技術、檢測技術等方面都有系統而深入的研究，取得了大批國家級的研究成果。在此基礎上，研究所近年來開展了微納米功能器件、光電顯示技術與光電成像方面的研究，特別是對投影顯示的研究取得了卓有成效的進展。獲國家自然科學獎、國家科技進步獎、發明獎各一項，省部級科技進步獎十餘項。培養的碩士、博士研究生遍布世界各地，是國際上知名的光學薄膜研究與人才培養基地。
基本介紹
- 中文名：浙江大學光電工程研究所
- 前身：浙江大學光學與光電子薄膜研究所
浙江大學光電工程研究所主要從事：微納光電器件，光電顯示與光電成像三個方面你的研究。研究所有教職工11名，其中教授4名，副教授3名，實驗員2名。擁有1.3米高真空電子束鍍膜設備、MBE設備、雙離子束濺射薄膜製備設備、日本島津光譜儀、Olympus反射率光譜儀，Nikon顯微鏡等研究設備與手段。
浙江大學光電工程研究所主要研究方向：
1.高精度複雜膜系的光學薄膜以及極端光學特性的設計、製備與檢測技術
2.微納光電功能薄膜與器件，微結構型光學薄膜器件與技術
3.光電顯示技術：人機界面技術、三維光場顯示技術，頭戴式顯示技術及特種顯示技術
4.非成像光學：自由曲面光學設計與製備，自由曲面照明
5.成像光學：超分辨成像，光譜成像以及計算成像
6.環境與生物光電功能檢測與成像技術
