有機化學氣相沉積設備是一種用於化學領域的工藝試驗儀器,於2007年11月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:有機化學氣相沉積設備
- 產地:中國
- 學科領域:化學
- 啟用日期:2007年11月1日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 化工、製藥工藝實驗設備
有機化學氣相沉積設備是一種用於化學領域的工藝試驗儀器,於2007年11月1日啟用。
有機化學氣相沉積設備 有機化學氣相沉積設備是一種用於化學領域的工藝試驗儀器,於2007年11月1日啟用。技術指標 有能夠將不同反應氣體分別送入反應室、有助於反應氣體形成良好的層流。主要功能 製備II-VI族和III-V族半導體薄膜材料。
金屬有機化合物化學氣相沉積裝置 金屬有機化合物化學氣相沉積裝置是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2014年10月8日啟用。技術指標 啟動機械泵和羅茨泵後真空室內低真空在20min內壓強低於5Pa。主要功能 各種光學薄膜元件的製備。
有機金屬化合物化學氣相沉積法簡稱MOCVD法(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)或有機金屬化合物氣相外延法(Metal Organic Vapor Phase Epitaxy)簡稱MOVPE或OMVPE法。它是把反應物質全部以有機金屬化合物的氣體分子形式,用H2氣作載帶...
對於Pd 的使用大多是將鈀合金或是鈀鍍層生產氫淨化設備 。也有些學者使用化學氣相沉積法將鈀製成薄膜或薄層。具體做法是使用分解溫度極低的金屬有機化合物當做製備鈀的材料,具體包括:烯丙基[β-酮亞胺]Pd(Ⅱ)、Pd(η-C₃H...
近年研究處理廢料再生鎢的方法有電解法,鋅熔法、高溫氧化法,化學溶解法及氯化法等。其中氯化法所用設備簡單,對原料適應性廣, 因此,被認為是較有前途的方法之一。鎢條垂熔時夾頭兩端的切塊(純度>99%以上)在950℃時在氯化管內用...
6.2.1 金屬有機物化學氣相沉積設備的組成 (80)6.2.2 典型設備的介紹 (81)6.3 金屬有機物化學氣相沉積工藝控制和半導體薄膜的生長 (85)6.4 金屬有機物化學氣相沉積生長的半導體薄膜質量檢測 (87)6.4.1 X射線衍射 (...
加快半導體照明(LED、OLED)研發,重點是金屬有機源化學氣相沉積設備(MOCVD)、高純金屬有機化合物(MO源)、大尺寸襯底及外延、大功率晶片與器件、LED背光及智慧型化控制等關鍵設備、核心材料和共性關鍵技術,示範套用半導體通用照明產品,加快推廣...
加快半導體照明(LED、OLED)研發,重點是金屬有機源化學氣相沉積設備(MOCVD)、高純金屬有機化合物(MO源)、大尺寸襯底及外延、大功率晶片與器件、LED背光及智慧型化控制等關鍵設備、核心材料和共性關鍵技術,示範套用半導體通用照明產品,...