放置誤差

掩模製備時,同一個產品的不同掩模之間的圖形應該是對準的,但在實際情況下,這些圖形之間是有偏差的,這些掩模圖形之間的偏差被稱為放置誤差(placement error)。

基本介紹

  • 中文名:放置誤差
  • 外文名:placement error
簡介
放置誤差直接影響到晶圓上圖形之間的套刻誤差。ASML提出一種新的方法,可以用來減少掩模放置誤差對晶圓套刻誤差的影響。該方法使用一台離線的掩模放置誤差測量設備(an off-line mask registration tool)測量出掩模之間的對準偏差,然後使用模型對數據進行處理,並把修正結果傳送到光刻機對準系統。這是一種與掩模相關聯的前置修正(feed forward),可以節省工藝參數設定的時間。使用這種方法,28 nm 器件的50個光刻層,30%的光刻層套刻精度得到了改善。

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