放置誤差

在掩模製備時，同一個產品的不同掩模之間的圖形應該是對準的，但在實際情況下，這些圖形之間是有偏差的，這些掩模圖形之間的偏差被稱為放置誤差（placement error）。

基本介紹

• 中文名：放置誤差
• 外文名：placement error

簡介

放置誤差直接影響到晶圓上圖形之間的套刻誤差。ASML提出一種新的方法，可以用來減少掩模放置誤差對晶圓套刻誤差的影響。該方法使用一台離線的掩模放置誤差測量設備（an off-line mask registration tool）測量出掩模之間的對準偏差，然後使用模型對數據進行處理，並把修正結果傳送到光刻機對準系統。這是一種與掩模相關聯的前置修正（feed forward），可以節省工藝參數設定的時間。使用這種方法，28 nm 器件的50個光刻層，30%的光刻層套刻精度得到了改善。