放射性腦損傷時VEGF過表達上調Ang2水平導致微血管異常重塑

放射性腦損傷時VEGF過表達上調Ang2水平導致微血管異常重塑

《放射性腦損傷時VEGF過表達上調Ang2水平導致微血管異常重塑》是依託中山大學,由黃海威擔任項目負責人的面上項目。

基本介紹

  • 中文名:放射性腦損傷時VEGF過表達上調Ang2水平導致微血管異常重塑
  • 項目類別:面上項目
  • 項目負責人:黃海威
  • 依託單位:中山大學
中文摘要,結題摘要,

中文摘要

血管內皮生長因子(VEGF)過表達是放射性腦損傷(RBI)病程中的突出表現。與傳統認識相反,VEGF非但不能修復血管,反而加重微血管損傷促使RBI發生髮展,目前具體機制尚不清楚。新近研究發現血管生成調控通路Ang/Tie-2中Ang2/Ang1的比率增加引起血管異常重塑,腫瘤高水平的VEGF對Ang2有上調作用。由此我們提出RBI發病的新機制:照射後VEGF過表達上調Ang2水平促使微血管異常重塑,阻礙血管生成。本項目擬檢測RBI患者腦組織VEGF、Ang-1、Ang-2的失衡情況及微血管的破壞;並通過動物模型和細胞模型,研究腦組織照射後上述調控分子水平變化、微血管形態和功能指標改變,及彼此間的相關關係,以闡明VEGF過表達促使RBI發病的機理。進一步採用VEGF拮抗劑干預、基因敲入和siRNA干擾技術,探討可否通過降低VEGF水平而減輕微血管異常重塑,為治療RBI尋找有效方法。

結題摘要

項目背景:放射性腦損傷(radiation induced brain injury,RBI)指腦部或者腦鄰近部位放射治療引起的腦組織損傷,是放療後最嚴重的併發症,嚴重影響患者的生存期和生活質量,已成為限制放療劑量、降低療效的關鍵因素。RBI的發生與血管內皮生長因子(VEGF)過表達及微血管損傷相關,然而VEGF升高引起RBI微血管損傷的機制尚未闡明。因此,本課題擬探討RBI發病中血管生成系統VEGF/VEGFR和Ang/Tie-2的異常改變,為確立VEGF作為RBI防治新靶點奠定基礎。 主要研究內容:1、觀察RBI患者病灶中是否存在VEGF、Ang-1、Ang-2等血管生成調控分子的水平改變,以及微血管異常重塑;2、動物層面分析照射後VEGF過表達是否上調Ang-2表達並下調Ang-1水平,以加重微血管異常重塑;3、在細胞水平分析消除照射後VEGF高表達是否能抑制Ang-2上調及血腦屏障的損傷;4、觀察正/負性的VEGF表達是否增加/減少Ang-2/Ang-1比率及微血管異常重塑 。 重要結果及關鍵數據:細胞層面:①不同劑量或者不同時間段照射星形膠質細胞,GFAP蛋白表達呈劑量依賴性增高,VEGF蛋白表達呈劑量和時間依賴性增高;②不同劑量照射內皮細胞和星形膠質細胞共培養體系,可觀察不同劑量組VEGF和低劑量組Ang-2蛋白水平升高,不同劑量組Ang-1、Tie-2蛋白和高劑量組Ang-2表達量降低。動物層面:①照射後小鼠60天后出現血腦屏障破壞並伴有Ang-2、VEGF過表達和Ang-1低表達現象;②X線照射小鼠並連續觀察180天,發現微血管損傷隨時間加重,GFAP、VEGF和Ang-2蛋白水平隨時間增加表達增加,Ang-1、Tie-2、Z0-1、VWF蛋白水平隨時間增加表達減少;②使用貝伐單抗(VEGF拮抗劑)治療照射後小鼠,治療組認知功能改善,VEGF、Ang-2蛋白表達水平較照射組降低,Ang-1、VWF、ZO-1蛋白表達水平較照射組升高,血腦屏障功能改善。③患者層面:對比正常腦組織,腦組織切片可見GFAP、VEGF、Ang-2過表達而Ang-1低表達現象。 科學意義:研究闡明照射後VEGF過表達增加Ang-2/Ang-1比率,引起微血管異常重塑導致放射性腦損傷的新機制,為確立VEGF作為其防治新靶點提供更充分的科學依據。

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