《提高薄膜光譜性能的膜厚監控方法》是中國科學院上海光學精密機械研究所於2011年4月15日申請的專利，該專利的公布號為CN102191475A，申請號為2011100946607，授權公布日為2011年9月21日，發明人是朱美萍、易葵、邵建達、范正修。
《提高薄膜光譜性能的膜厚監控方法》包括：（1）鍍膜前向計算機輸入鍍膜參數：（2）通過計算機計算選擇滿足限制條件的監控波長λ和監控片數目，其中λMin＜λ＜λMax，得到一個與所鍍膜系的鍍膜監控表，包括所鍍膜系按順序的膜層、相應的監控波長和監控片序號；（3）鍍膜等步驟。本發明能夠自動選擇監控波長和所需的最少監控片數目，採用比例式膜厚監控方法，減少了膜厚監控誤差，提高了膜厚監控精度，可對規整膜系和非規整膜系進行監控。在膜厚監控系統控制精度不變的情況下，可有效地提高了薄膜的光譜性能。
2018年12月20日，《提高薄膜光譜性能的膜厚監控方法》獲得第二十屆中國專利優秀獎。
（概述圖為《提高薄膜光譜性能的膜厚監控方法》摘要附圖）
基本介紹
- 中文名： 提高薄膜光譜性能的膜厚監控方法
- 公告號：CN102191475A
- 授權日：2011年9月21日
- 申請號：2011100946607
- 申請日：2011年4月15日
- 申請人：中國科學院上海光學精密機械研究所
- 地址：上海市800-211郵政信箱
- 發明人：朱美萍、易葵、邵建達、范正修
- Int.Cl.：C23C14/54(2006.01)I; C23C14/24(2006.01)I
- 代理機構：上海新天專利代理有限公司
- 代理人：張澤純
- 類別：發明專利
專利摘要,榮譽表彰,
專利摘要
《提高薄膜光譜性能的膜厚監控方法》包括：（1）鍍膜前向計算機輸入鍍膜參數：（2）通過計算機計算選擇滿足限制條件的監控波長λ和監控片數目，其中λMin＜λ＜λMax，得到一個與所鍍膜系的棵辯嫌翻鍍膜監控表，包括所鍍膜系按順序的膜層、相應的監控波長和監控片序號；（3）鍍膜等步驟。本發明能夠自動選擇監控波長和所需的最少監控片數目，採用比例式膜厚監霉灶蜜控方法，減少了膜厚監控誤差，肯抹烏提高旬罪了膜厚監控精度，可對規挨企主整膜系和非規整膜系進行監控。在膜厚監控系統控制精度不變的情況下，可有效地提高了薄膜的光譜性能。
榮譽表彰
2018年12月20日，《提高薄膜光譜性能的膜厚監控方法》獲勸她希得第二十屆酷應閥譽中國專利優秀獎。
