提拉機

提拉鍍膜法是一種廣泛套用於科研方面薄膜製備的方法。這樣可以在矽片或者圓柱形基片上鍍上均勻的薄膜。

基本介紹

  • 中文名:提拉機
  • 物理尺寸:162mm(W)*305mcm(D) *356mm(D)
  • 環境控制:可調
  • 最大鍍膜尺寸: 75mm * 75mm
介紹,過程,厚度影響因素,適用情況,型號及區別,

介紹

提拉鍍膜法是一種廣泛套用於科研方面薄膜製備的方法。這樣可以在矽片或者圓柱形基片上鍍上均勻的薄膜。而在工業生產商,更多的則使用旋塗鍍膜法。提拉機由在國際上SOL-GEI技術領先的CHEMAT TECHNOLOGY, INC設計完成。其主要關鍵元器件由美國進口,整機裝配由上海CHEMAT安裝調試完成。DipMaster 50提拉機是專門用於薄膜製備可行性研究的鍍膜工具,它採用了浸泡提拉的鍍膜技術。

過程

提拉鍍膜法就是把需要鍍膜的基片浸入溶液中,通過預先設定的速度,在一定的溫度和空氣環境下將基片慢慢提拉出來。
提拉過程可以分為5個步驟:
1 浸入溶液:將基片以預先設定的速度(最好無任何抖動)侵入鍍膜溶液中
2 浸泡:讓基片在溶液中浸泡一定的時間,然後準備提拉
3 沉積:在提拉的過程中,薄膜會沉積在基片上。提拉的速度必須穩定,避免任何抖動。提拉速度是膜層厚度一個重要的決定因素。(提拉速度越快,膜層厚度越厚)
4 溢流:多餘的溶液會在提拉的過程中從基片表面上流掉
5 揮發:溶劑從溶液中揮發掉,在基片表面上形成薄膜。易揮發的溶劑如酒精。揮發過程在沉積和溢流的過程中會同時進行。

厚度影響因素

1 提拉速度(提拉的速度必須非常穩定,避免抖動)
2 固體含量
3 液體粘度決定

適用情況

1 基片比較大(旋塗鍍膜法不適用的情況)
2 基片形狀特殊
3 兩面同時鍍膜

型號及區別

其體積小,重量輕,容易與實驗室各種設備連線安裝.提拉機共分為三個型號:DipMasterTM提拉機50、100、200; DipMasterTM提拉機50
DipMasterTM提拉機50:最大的鍍膜尺寸為75mm × 75mm,提拉速度為每分鐘10~200mm(可調)。體積小巧,台式設計。提拉距離0~75mm(可調),提拉環境可以控制,還可以根據客戶要求,增加電腦操作界面和溫度可控的溶液槽。
技術參數:
提拉速度: 8~200mm/分鐘(可調)
提拉距離:0~75mm (可調)
電腦操作界面: 可選
溫度可控的溶液槽: 可選
DipMasterTM提拉機100
DipMasterTM提拉機100:最大的鍍膜尺寸為23cm*23cm,提拉速度為每分鐘1.2cm-10.2cm/分鐘。含有一個最大溫度為80℃的紅外烘箱,溫度可以手動設定。提拉距離可調,提拉的環境可以控制,還可以根據客戶要求,增加電腦操作界面和溫度可控的溶液槽。
技術參數/規格:
物理尺寸:45.72cm(W)*45.72cm(D)*76.2cm(H)X18”X30”
最大鍍膜尺寸: 23cm*23cm
提拉速度: 1.2cm-10.2cm/分鐘
提拉距離: 可調
烘箱最大溫度: 80℃
溫度控制: 手動
環境控制: 可調
電腦操作界面:可選
溫度可控的溶液槽:可選
DipMasterTM提拉機200
DipMasterTM提拉機200:最大的鍍膜尺寸為12’’X 12’’,提拉速度為每分鐘0.5’’-4.0’’。含有一個最大溫度為450℃的烘箱,溫度可調。,溫度可調
技術參數/規格:
物理尺寸:45.72cm(W)*63.5cm(D)*132cm(H)
最大鍍膜尺寸: 30.5cm*30.5cm
提拉速度: 1.2cm-10.2cm/分鐘
提拉距離: 可調
烘箱最大溫度: 450℃
溫度控制: 程式設定
環境控制: 可調
電腦操作界面:可選
溫度可控的溶液槽:可選

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