掃描雷射微納直寫系統

掃描雷射微納直寫系統是一種用於信息科學與系統科學、電子與通信技術領域的雷射器，於2017年11月2日啟用。

基本介紹

• 中文名：掃描雷射微納直寫系統
• 產地：英國
• 學科領域：信息科學與系統科學、電子與通信技術
• 啟用日期：2017年11月2日
• 所屬類別：雷射器

技術指標

最大樣品尺寸155×155×7mm；最大直寫面積149mm x 149mm；曝光光源405 nm LED 1.5W；雷射源壽命：連續工作時間大於10000小時；直寫解析度1μm；直寫速度20mm2/min @ 1μm；集成高倍光學顯微鏡系統2套，放大倍數分別為：X5，X40；對準精度：2um；可視化對準精度優於500nm；灰度直寫等級：256級；多層套刻精度±1μm；最小柵格精度200nm；樣品台最小步長100nm。

主要功能

掃描雷射微納直寫系統在無需物理掩膜版的情況下，通過控制線性掃描雷射對指定區域進行曝光，從而實現曝光的目的。主要用於製備和研究微納材料，微納結構，微納器件等。