基本介紹
- 中文名:掃描場
- 外文名:Scanning field
場與場之間的拼接靠台面的精密移動實現,為了保證曝光的拼接精度,通常還在偏轉區內設定更小的子場,子場之間的圖形拼接精度控制偏轉系統實現,掃描場的大小由掃描模式確定。
掃描曝光方式的電子束曝光系統或者雷射曝光系統中,偏轉器的偏轉範圍有限,需要設定一定大小的掃描寬度,在這個範圍內可實施偏轉畸變校正,這個掃描曝光的範圍稱為掃描場。場與場之間的拼接靠台面的精密移動實現,為了保證曝光的拼接精度...
場掃描電鏡 場掃描電鏡是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2010年08月06日啟用。技術指標 放大25-650,000倍; 解析度1nm(15kV),2.2nm(1kV)。主要功能 實現材料表面的高解析度圖像觀測和微區成分分析。
近場光學掃描系統是一種用於材料科學領域的儀器,於2015年09月04日啟用。技術指標 技術指標: 品牌/型號:德國Attocube System AG; 具體指標:Vibration isolation system for an attoCRYO SYSTEM,Helium level meter with probe,ARC casing with power supply,for up to 5 attocube systems modules 19’rack ...
PC機通過圖形發生器和數模轉換電路去驅動SEM等儀器的掃描線圈,從而使電子束偏轉並控制束閘的通斷。通過NPGS可以對標準樣片進行圖像採集以及掃描場的校正。配合精密定位的工件台,還可以實現曝光場的拼接和套刻。利用配套軟體也可以新建或導入多種通用格式的曝光圖形。(一) 電子源(Electron Source)曝照所需電子束是由...