微焦斑轉靶單晶X射線衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年12月21日啟用。
基本介紹
- 中文名:微焦斑轉靶單晶X射線衍射儀
- 產地:德國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2018年12月21日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀
微焦斑轉靶單晶X射線衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年12月21日啟用。
微焦斑轉靶單晶X射線衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年12月21日啟用。技術指標 旋轉陽極Mo靶,二維面探測器;三軸(ω,2θ,φ)測角儀:角度重現性±0.0001°;液氮低溫系統:溫度範圍80-500K。主要功能 常溫及...
轉靶微焦斑X射線單晶衍射儀是一種用於化學、藥學、材料科學領域的分析儀器,於2017年12月18日啟用。技術指標 功率200W,光強 6.0 x 10 11 x-rays/sec/mm2,焦斑在24小時內距中心的標準偏差在0.1微米以下,空氣製冷。主要功能 用...
X射線微焦斑單晶衍射儀是一種用於生物學領域的分析儀器,於2012年11月23日啟用。技術指標 微焦斑銅靶,帶多層膜光學部件,功率50W,最大電流1mA,電壓50KV,kappa四原測角儀,角度解析度0mega,theta為0.0125度,CCD檢測器以及,...
雙微焦斑X射線單晶衍射儀是一種用於化學、工程與技術科學基礎學科、自然科學相關工程與技術、材料科學領域的分析儀器,於2017年6月15日啟用。技術指標 Helios nanolab 460HP。主要功能 精確測定無機物、有機物和金屬配合物等結晶物質的...
雙靶微焦斑單晶X-射線衍射系統是一種用於化學領域的分析儀器,於2015年11月17日啟用。技術指標 X射線光源採用Mo/Cu雙微焦斑光源系統,可自動切換。檢測器全新半導體二維陣列探測器(10.0cmX14.0cm)。測角儀為三軸測角儀,角度重現...
X射線雙微焦斑衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2013年11月1日啟用。技術指標 1. Eos CCD 檢測器 2. 微焦斑Mo光源(Mova)或/和 微焦斑Cu光源(Nova) 3. 四圓 kappa 測角儀。主要功能 1. 檢測器:採用級別最高、...
高強度X射線單晶衍射儀是一種用於生物學、基礎醫學、藥學領域的分析儀器,於2016年10月1日啟用。技術指標 1靶類型:微焦斑旋轉陽極,銅靶 1.1 最大輸出功率:≥ 2500W 1.2 最大管電流:≥ 60mA 1.3 最大管電壓:≥45kV 2....
微焦斑X射線單晶衍射儀 微焦斑X射線單晶衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2017年12月13日啟用。技術指標 Microfocus sealed Mo source 50w,hypix6000HE,kappa gonioometer。主要功能 單晶衍射。
微焦斑單晶衍射儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2014年10月12日啟用。技術指標 X光源:Mo,Cu雙光源系統探測器:4KCCD二維探測器測角儀:固定κ軸的3軸測角儀液氮低溫系統溫度控制範圍:90K~400K溫度控溫精度:+...
雙光源單晶X射線衍射儀是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2016年11月08日啟用。技術指標 (1)Mo/Cu雙微焦斑系統,可自動切換;(2)全新CMOS二維陣列探測器,檢測器面積10cm×14cm;(3)Kappa四圓測角儀,角度重現性±0....