晶圓上專門用來測量套刻誤差的圖形被稱為套刻標識。 基本介紹 中文名：套刻標識外文名：overlay mark 測量套刻誤差的圖形在設計掩模時已經被放置在了指定的區域，通常是在曝光區域的邊緣，又叫“scribeline”或“kerf”區域。最簡單的套刻標識是所謂的套疊方框圖形（frame-in-frame），如圖1所示。方框整體的尺寸是20~50um，線寬是1~3um。這個尺寸保證了它們在光學顯微鏡下能被清楚地分辨出來。套疊方框圖形內部的小方框位於參考層中，外方框位於當前的光刻膠中。圖1 套疊方框圖形
圖1 套疊方框圖形