國際商標標誌雙年獎

由CCII國際設計中心主辦。 CCII國際設計中心、首都企業形象研究會，是國際平面設計社團協會（ICOGRADA）在中國地區主要協會成員，自97年創建以來，致力於視覺形象領域的國際交流與研究推廣。鑒於“第23屆世界設計大會”在北京舉辦，並取得的巨大成果，CCII也將以798國際設計館為交流合作平台，為創意機構及設計人提供合作與學習機會，陸續舉辦系列主題展覽及活動，歡迎歷屆獲獎者及會員聯絡組委會，共鑲盛舉。

基本介紹

• 中文名：國際商標標誌雙年獎
• 主辦：由CCII國際設計中心
• 創作時間：2006年至2010年
• 頻率：兩年一度

歷史

分別在北京、上海等地成功舉辦LOGO1998、LOGO2000、LOGO2002、LOGO2004、LOGO2006、LOGO2008六屆國際商標節。第七屆國際商標節，即LOGO2010現初步完成作品徵集。

評審與評審標準

兩年一度的國際商標標誌雙年獎作為ICOGRADA認可的國際性設計獎項，也是商標節的重要活動之一。歷屆評審團均由國際著名設計大師組成，其中有ICOGRADA前主席海爾穆特·朗格、AGI前主席石漢瑞、美國分會主席斯蒂夫·蓋斯布勒、瑞士分會主席尼古拉斯·特羅斯勒、法國AGI成員呂迪·鮑爾、中國AGI會員余秉楠、靳埭強、阿根廷平面協會主席巴布羅·康斯特、香港設計師協會前任主席劉小康等。他們的評選結果代表了當今世界視覺識別設計領域的極高水準，使一批優秀的設計師脫穎而出，並將他們的視覺能量傳播給世界。評選將嚴格遵循雙年獎評選的三大原則進行：作品的原創性、藝術上的完美性、準確傳達內容。

評選

本屆雙年獎所有參賽作品創作時間限定為2006年至2010年，獲獎作品將入選《LOGO國際商標標誌雙年獎年鑑》，並將在國際設計網及相關的宣傳資料中刊登。評選結束後，作品將隨ADC獲獎作品在全國20多個城市巡迴展出，更將通過ADC、ICOGRADA在各國的設計組織與其他國家進行設計交流展覽。

詳情（參賽細則）請參閱相關網站。