單層TMDC薄膜製備與異質結構光探測性能研究

單層TMDC薄膜製備與異質結構光探測性能研究

《單層TMDC薄膜製備與異質結構光探測性能研究》是依託電子科技大學,由李春擔任醒目負責人的面上項目。

基本介紹

  • 中文名:單層TMDC薄膜製備與異質結構光探測性能研究
  • 依託單位:電子科技大學
  • 項目類別:面上項目
  • 項目負責人:李春
項目摘要,結題摘要,

項目摘要

單層過渡金屬硫化物(TMDC)半導體因具有直接帶隙,成為二維晶體材料研究的熱點,而大面積均勻、高質量單層薄膜的可控制備是實現其規模化光電器件的關鍵。項目提出以等離子增強化學氣相沉積(PECVD)製備單層TMDC半導體薄膜,研究基於其堆垛異質結構的波長可調節、高量子效率光探測器。研究內容包括:(1)以MoS2和WSe2為代表,研究高結晶質量和柔性基底兼容的單層MoS2和WSe2薄膜的PECVD製備工藝,闡明原子層薄膜的生長規律與機制。(2)結合結構表征、光譜分析、及基於場效應電晶體的載流子電輸運測試,評價所製備的原子層薄膜質量。(3)構築單層MoS2、WSe2及其堆垛異質結構光探測器,研究其光探測性能及光回響機理。本研究旨在探索製備大面積、高質量原子層TMDC薄膜的新方法,探尋原子層二維TMDC半導體薄膜及其異質結構光回響的新性能,為二維TMDC半導體材料及其光電器件套用基礎研究提供科學參考。

結題摘要

單層過渡金屬硫化物(TMDC)半導體因具有直接帶隙和獨特光與物質相互作用效應,成為新型電子與光電子材料研究的熱點,而大面積均勻、高質量單層薄膜的可控制備是實現其規模化光電器件的關鍵。本項目主要研究二維TMDC薄膜的大面積氣相沉積製備及其原型光電探測器件。主要研究結果包括,1.選擇低壓沉積化學氣相沉積(LPCVD)成功製備了晶圓尺度單層WS2薄膜,表面氣體吸附強烈影響其載流子輸運性質與光電回響特性;2. 以MoS2薄膜為例,發展了一種基於襯底移動的常壓化學氣相沉積(APCVD)層數可控的TMDC製備方法;3. 發展了一種大面積自動聚焦拉曼成像技術,為提高二維材料表徵效率提供了有益參考;4. 在對所製備的兩種TMDC薄膜進行系統性結構表征的基礎上,製備了WS2/Si PN結型齊納隧穿型光電二極體探測器,器件回響度超過商業化矽基二極體探測器,還製備了WS2-ZnO,WS2-graphene等高回響度光電導型探測器,進而深入研究了其光電回響特性及其較強光電轉換的物理機制。本項目研究結果為其它二維過渡金屬硫族化合物的製備、基本性質和原型器件研究提供科學指導,為二維晶體材料基器件規模化集成奠定基礎。

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