去離子水沖洗單元

隨著193nm浸沒式光刻機的廣泛使用，浸沒式曝光工藝對勻膠顯影機提出了新的要求。浸沒式光刻是在純淨水下對光刻膠進行步進-掃描式曝光，曝光後經常會有水滴殘留在晶圓表面。在後烘之前，這些水滴需被清除掉。否則，在高溫烘烤時，水滴會和膠中的成分反應，形成缺陷。為此，在浸沒式勻膠顯影機中就添加了一個去離子水沖洗單元（DI water rinse module）。這個去離子水沖洗單元也可以在曝光前使用，把光刻膠中容易釋放（leaching out）到水中的化學成分先沖洗掉。

如圖1（a）所示，為去離子水沖洗單元的結構。三個頂針用於接收機械手送進來的晶圓，然後下降，把晶圓放在轉台上。整個轉台都被一個罩杯包圍，以防止旋轉時水滴外濺。晶圓被真空固定在轉台上。機械臂把噴嘴移動到晶圓的正上方，噴淋去離子水，同時晶圓以一定的速度轉動，如圖1（b）所示。最後，噴淋停止，晶圓高速轉動，甩乾。為了提高去除水漬的效果，在機械臂上還可以安裝一個N₂噴嘴。晶圓甩乾時，可以同時開啟N₂。