去膠返工

去膠返工是對光刻膠上不符合要求的圖形線寬或套刻誤差，使用化學的方法把曝光後的光刻膠清洗掉，重新塗膠再做曝光。

基本介紹

• 中文名：去膠返工
• 外文名：rework

去膠返工（rework）給光刻工藝提供了修改工藝錯誤的機會，但是去膠的化學反應不能對襯底有損傷。傳統的去膠工藝是使用H2SO4和H2O2的混合液。它們的配比是4L 98%的H2SO4:1L 30%的H2O2，這種混合液又叫“Piranha”。硫酸會先把有機物中的H和O去除，使其迅速碳化，然後雙氧水參與反應生成揮發性的CO2或CO，最後是去離子水沖洗。