光電薄膜製備-真空室

光電薄膜製備-真空室是一種用於核科學技術、物理學領域的科學儀器，於2006年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：光電薄膜製備-真空室
• 產地：中國
• 學科領域：核科學技術、物理學
• 啟用日期：2006年1月1日

技術指標

漏率≤2×10↑-10 Torr`L/S,水冷、工作溫度≤450℃。該設備由7台連續鍍膜真空室組成。1號室為進料室，2號室有兩個靶位，3號室為硒化室，4號室有3個靶位，5號室為中轉製備室，6號室有兩個靶位，7號室為出料室。

主要功能

由7室組成的製備光電薄膜設備，每室有專用泵組及制模設備，可以分別獨立工作，組合工作可以製備多次表薄膜。