光掩膜基版是製作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板，通過光刻製版工藝可以獲得所需光掩膜版。 基本介紹 中文名：光掩膜基版外文名：Photomask base plate本質：理想感光性空白板工藝：光刻製版工藝 簡單地說，光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之後就成為光掩膜版。
