光學全場變形應變測量系統

光學全場變形應變測量系統是一種用於信息科學與系統科學領域的科學儀器，於2017年12月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：光學全場變形應變測量系統
• 產地：美國
• 學科領域：信息科學與系統科學
• 啟用日期：2017年12月20日

技術指標

應變測量範圍0.005%至≥2000%，高速攝像機測量範圍為3mm×3mm至≥10m×10m，低速攝像機可用測量範圍為1mm×1mm至5m×5m；三維應變測試精度≤0.005%，二維應變測試精度≤0.001%；系統位移測量精度≤0.01像素；最高位移/振幅測量靈敏度≤20nm；高速攝像機圖像採集器解析度為1024×1024像素；工作解析度與幀率1024×1000@13500fps，最高幀率為480000fps；低速相機解析度為2448×2048像素。

主要功能

通過非接觸的方式，通過追蹤物體表面的散斑，結合軟體分析，實現變形過程總物體表面的三維坐標、位移及應變的動態測量，完成三維全場應變測量和動態特性分析，獲得試件的變形及變形全過程中的位移、速度等數據，並能通過紅外高速攝像機捕捉物體的實時溫度。