低能粒子散射譜

低能粒子散射譜

低能粒子散射譜(Low-Energy In Scattering ,LEIS)利用具有特定能量的惰性氣體離子入射到樣品表面,與樣品表面的原子進行彈性碰撞。根據彈性散射理論,散射離子的能量分布與表面原子的原子量相關。通過對散射離子能量進行分析,就可以得到表面元素組分及表面結構的信息。

基本介紹

  • 中文名:低能離子散射譜
  • 外文名:Low-Energy In Scattering ,LEIS
  • 關鍵字:低能離子散射譜、質譜
介紹,特點,動態,套用,

介紹

催化反應只發生在材料的最表層。低能離子散射譜(Low-Energy In Scattering ,LEIS)利用具有特定能量的惰性氣體離子入射到樣品表面,與樣品表面的原子進行彈性碰撞。根據彈性散射理論,散射離子的能量分布與表面原子的原子量相關。通過對散射離子能量進行分析,就可以得到表面元素組分及表面結構的信息。低能離子散射譜所獲得的信息來自樣品的最表層,因而是研究表面成分、表面結構以及表面過程的強有力的手段。
低能離子散射譜原理示意圖
低能粒子散射譜

特點

1、新型的全方位角離子收集器,可以收集樣品表面特定區域的幾乎全部反射離子。
2、超高的表面靈敏度,信息深度一般在3個原子層之內。
3、良好的定量特性。
4、離子源可以工作在高束流模式和分析模式之間切換,可以對樣品進行清潔和濺射。
5、自動化的真空系統、完善的互鎖裝置,使操作更簡單。
6、最表層原子定量分析。

動態

相比傳統LEIS系統,最新的訊息Qtac-100型低能離子散射譜儀採用新型離子收集器,靈敏度提高3000倍!

套用

1、可以與多種生長設備和其他分析設備集成;
2、可用於單原子層沉積過程和生長動力學研究;
3、可用於分析粗糙表面和絕緣材料分析;
4、可用於於材料催化性能研究;
5、可用於生物材料、半導體材料等性能研究。

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