低溫恆溫循環器

低溫恆溫反應浴常套用於對半導體製造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗淨轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。並且對雷射裝置發熱部分的冷卻：雷射加工、熔接機的發熱部分、雷射標誌裝置、發生裝置、二氧化碳雷射加工機等起到很大作用。

低溫恆溫循環器

提供-40℃~105℃溫度範圍內的高、低恆溫液體，以滿足用高、低溫做反應的恆溫儀器的需要。

低溫恆溫循環器

特別適用與化學反應釜、發酵罐、旋轉蒸發器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發皿、生物製藥反應器等實驗設備配套使用。

先進的內循環和外循環泵系統，內循環使儀器溫度均勻恆定，外循環泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現一機多用

低溫恆溫循環器主要特點

●風冷式高效全封閉製冷壓縮機,降溫速度快。

●微機智慧型控制,溫度精確溫度。

●數顯解析度0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。

●溫度超溫保護,自動切斷電源並報警。

●製冷系統過熱、過流自動保護。

低溫恆溫循環器技術參數

型號	溫度範圍; （℃）	數顯解析度; （℃）	溫度波動度; （℃）	槽容積（L）	循環泵流量; （L/min）	外型尺寸; （mm）
HX-08	0~105	0.01	±0．05	8	16	320×370×670
HX-010	0~105	0.01	±0．05	10	18	320×370×770
HX-015	0~105	0.01	±0．05	15	16	320×370×770
HX-020	0~105	0.01	±0．05	20	16	400×450×980
HX-030	0~105	0.01	±0．05	30	16	440×550×1000
HX-0508	-5~105	0.01	±0．05	8	16	320×370×670
HX-0510	-5~105	0.01	±0．05	10	18	320×370×770
HX-0515	-5~105	0.01	±0．05	15	16	320×370×770
HX-0520	-5~105	0.01	±0．05	20	16	400×450×980
HX-0530	-5~105	0.01	±0．05	30	16	440×550×1000
HX-1008	-10~105	0.01	±0．05	8	16	320×370×670
HX-1010	-10~105	0.01	±0．05	10	18	320×370×770
HX-1015	-10~105	0.01	±0．05	15	16	320×370×770
HX-1020	-10~105	0.01	±0．05	20	16	400×450×980
HX-1030	-10~105	0.01	±0．05	30	16	440×550×1000
HX-1508	-15~105	0.01	±0．05	8	16	320×370×670
HX-2008	-20~105	0.01	±0．05	8	16	320×370×670
HX-2010	-20~105	0.01	±0．05	10	18	320×370×770
HX-2015	-20~105	0.01	±0．05	15	16	320×370×770
HX-2020	-20~105	0.01	±0．05	20	16	400×450×980
HX-2030	-20~105	0.01	±0．05	30	16	440×550×1000
HX-3008	-30~105	0.01	±0．1	8	16	320×370×770
HX-3010	-30~105	0.01	±0．1	10	18	320×370×770
HX-3015	-30~105	0.01	±0．1	15	16	320×370×670
HX-4008	-40~105	0.1	±0．1	8	16	400×450×850
HX-4015	-40~106	0.1	±0．1	15	16	400×450×980