乾法雷射粒度儀

乾法雷射粒度儀是一種用於藥學領域的分析儀器，於2017年1月19日啟用。

基本介紹

• 中文名：乾法雷射粒度儀
• 產地：德國
• 學科領域：藥學
• 啟用日期：2017年1月19日
• 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 雷射光譜儀

技術指標

主機、測定池等基本要求：儀器設備必須為原裝進口產品。 技術參數要求：1. 符合ISO 13320國際雷射粒度儀製造標準。 2. ★粒度測試範圍：0.25-875微米。 3. ★光源：He-Ne氣體雷射光源，波長632.8nm，強度5mW。必須使用單一單色雷射光源保證粒度測試結果的準確性，不能使用雙光源或多光源混合光路。4. 光路設計：平行光路設計，測量結果與顆粒所在測試區域的位置無關。5. ★儀器測量精度：σ＜ 0.04% (單次取樣重複測試結果的誤差) σ＜ 0.3% (分次取樣測試結果的誤差) σ＜ 2.5%（多台相同規格儀器對同一個樣品測試結果的比較）分段量程測試解析度：0.25-80μm，解析度0.1μm 80-800μm，解析度1.0μm。

主要功能

藥品固體粉末粒度分析用。