乾濕法雷射粒度分析儀

乾濕法雷射粒度分析儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2019年12月4日啟用。

基本介紹

• 中文名：乾濕法雷射粒度分析儀
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2019年12月4日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

粒度分析範圍：0.1微米-3500微米; 光源：He-Ne氣體雷射光源，掃描速率：不小於2000次/秒；準確性誤差：σ＜±1% ;分散壓力：0.1Bar－6Bar樣品量：毫克－千克 9.5分析時間：10秒以內;遮光率：最高可達50%。

主要功能

1. 乾濕樣品均可測試； 2. 配置4種鏡頭，可適用不同顆粒大小的樣品。