一種單面發光晶片級LED的製作方法

一種單面發光晶片級LED的製作方法

《一種單面發光晶片級LED的製作方法》是蕪湖聚飛光電科技有限公司於2017年4月24日申請的專利,該專利申請號:2017102721376,專利公布號:CN106887505A,專利公布日:2017年6月23日,發明人是:龔濤、張志寬。

《一種單面發光晶片級LED的製作方法》公開了一種單面發光晶片級LED的製作方法,首先向模具的模腔中注入反射層原料,反射層原料分布於模腔中模仁的周圍,固化後得到的反射層對應於模仁的位置為空白處,將反射層轉移到膠膜層後在空白處設定LED晶片,然後在晶片外包裹螢光膠,螢光膠固化後切割去除多餘的反射層。本方法採用先製作反射層,後點注螢光膠的方法,徹底避免了反射層溢到螢光膠層表面、污染螢光膠進而影響LED產品光學性能的問題,在保證器件光學性能的同時,降低了產品的生產成本、簡化了工藝步驟、降低了作業難度、提高了生產效率。同時在反射層中間的空白處點注螢光膠還減少了切割螢光膠的工藝,只需最後切除多餘反射層,進一步提高了生產效率、降低了生產成本。

2021年8月16日,《一種單面發光晶片級LED的製作方法》獲得安徽省第八屆專利獎優秀獎。

(概述圖為《一種單面發光晶片級LED的製作方法》的摘要附圖)

基本介紹

  • 中文名:一種單面發光晶片級LED的製作方法
  • 公布號:CN106887505A
  • 公布日:2017年6月23日
  • 申請號:2017102721376
  • 申請日:2017年4月24日
  • 申請人:蕪湖聚飛光電科技有限公司
  • 地址:安徽省蕪湖市蕪湖經濟技術開發區銀湖北路37號新源大廈1008號
  • 發明人:龔濤、張志寬
  • Int.Cl.:H01L33/52(2010.01)I、H01L33/60(2010.01)I、H01L33/48(2010.01)I、H01L33/52、H01L33/60、H01L33/48
  • 專利代理機構:深圳市精英專利事務所
  • 代理人:龍丹丹
  • 類別:發明專利
專利背景,發明內容,專利目的,技術方案,改善效果,附圖說明,技術領域,權利要求,實施方式,榮譽表彰,

專利背景

LED(Light Emitting Diode,發光二極體)是一種能夠將電能轉化為可見光的固態的半導體器件,它可以直接把電能轉化為光能。LED作為一種新的照明光源材料被廣泛套用著。白光LED作為一種新型光源,因具有反應速度快、抗震性好、壽命長、節能環保等優點而快速發展、2017年4月前已被廣泛套用於景觀美化及室內外照明等領域。
傳統的LED封裝結構均需採用支架或者基板作為LED晶片的支撐體,支架或者基板都有正負極,通過金屬線實現正負極電氣連通,然後再用膠體或者螢光粉與膠體混合物對晶片進行封裝,此封裝結構優點是具有高反射率的封裝腔體,缺點是採用金屬線鍵合工藝,可靠性低;具有基板,整體結構熱阻大,降低了晶片的使用壽命。近些年逐漸發展出基於倒裝晶片的晶片級封裝LED(CSP LED;Chip Scale Package LED),其是一種在底面設有電極,且直接在晶片的上表面和側面封裝封裝膠體,使底面的電極外露(如圖1所示),由於這種封裝結構無支架或基板,在相同面積下,晶片級光源的封裝密度增加了16倍,最終得到的封裝結構體積可比傳統結構縮小80%,降低了封裝成本,提高了裝配可靠性。但是上述基於倒裝晶片的晶片級封裝LED結構存在發光角度大、不利於二次光學設計、光的萃取率偏低的問題。
為了解決上述問題,研發人員在常規晶片級封裝LED結構的基礎上在晶片的表面和側面封裝具有高反射性的反射層(如圖2所示),側壁的反射層與晶片表面的反射層呈90°角,該結構改變了發光角度,利於二次光學設計,但是反射層的存在往往會污染螢光膠表面,影響產品的光學性能參數,2017年4月以前通常採用膠帶粘除反射層或用砂輪打磨去除反射層,但是膠帶粘除效果不佳,會有殘留,殘留的反射層依然影響產品的光學性能,而砂輪打磨精度難以控制,容易損傷螢光膠,進而影響產品的光學性能,並且需要配備特定的砂輪設備,提高了產品的生產成本,降低了產品的生產效率。

發明內容

專利目的

《一種單面發光晶片級LED的製作方法》的目的是提出一種工藝簡單、無白牆膠殘留的單面發光晶片級LED的製作方法。

技術方案

《一種單面發光晶片級LED的製作方法》提供一種單面發光晶片級LED的製作方法,其包括如下步驟:S1、提供一模具,所述模具具有型腔和按照規律分布於所述型腔內的模仁;S2、向所述模腔中注入反射層原料,並烘烤使反射層原料固化,得到反射層,所述反射層對應於所述模仁的位置為空白處;S3、將反射層轉移至膠膜層;S4、在所述反射層中的空白處設定LED晶片;S5、向設定有LED晶片的空白處注入螢光膠,並烘烤使螢光膠固化;S6、切割去除LED晶片間多餘的反射層。作為優選,所述步驟S6後還包括烘烤分離膠膜層與反射層的步驟。作為優選,所述模仁的截面圖形為矩形,相鄰兩個模仁之間的間距為0.01-1000毫米。作為優選,所述步驟S2、S5中所述的烘烤溫度為100-150℃,烘烤時間為0.5-5小時。作為優選,所述反射層為白牆膠層,所述白牆膠層的反射率不低於95%,材質為二氧化鈦或硫酸鋇。作為優選,所述膠膜層為熱解膠膜層,烘烤分離膠膜層與反射層的步驟中,烘烤溫度為180-220℃,烘烤時間為2-30分鐘。作為優選,所述模仁與模腔一體成型。作為優選,所述螢光膠由稀土摻雜的無機螢光粉與封裝膠混合製得,所述稀土摻雜的無機螢光粉與封裝膠的質量比為0.1-1:1。作為優選,所述封裝膠為矽膠、矽樹脂、環氧樹脂或聚氨酯封裝膠。

改善效果

《一種單面發光晶片級LED的製作方法》提供一種單面發光晶片級LED的製作方法,首先向模具的模腔中注入反射層原料,反射層原料分布於模腔中模仁的周圍,固化後得到的反射層對應於模仁的位置為空白處,將反射層轉移到膠膜層後在所述空白處設定LED晶片,然後在晶片的周圍和頂部注入螢光膠,螢光膠固化後切割去除多餘的反射層。本方法採用先製作反射層,後點注螢光膠的方法,這種方法可以完全避免反射層溢到螢光膠層表面、污染螢光膠進而影響LED產品光學性能的問題,無需後續進行打磨或者粘除操作,在保證器件光學性能的同時,降低了產品的生產成本、簡化了工藝步驟、降低了作業難度、提高了生產效率。同時在反射層中間的空白處點注螢光膠還減少了切割螢光膠的工藝,只需最後切除多餘反射層,進一步提高了生產效率、降低了生產成本。

附圖說明

圖1是《一種單面發光晶片級LED的製作方法》實施例所述的單面發光晶片級LED的製作方法中模具的結構示意圖;
圖2是《一種單面發光晶片級LED的製作方法》實施例所述的單面發光晶片級LED的製作方法中模具的截面圖;
圖3是《一種單面發光晶片級LED的製作方法》實施例所述的單面發光晶片級LED的製作方法中反射層的示意圖。
圖中附圖示記表示為:1-型腔;2-模仁;3-反射層;4-空白處。

技術領域

《一種單面發光晶片級LED的製作方法》屬於LED生產技術領域,涉及一種晶片級LED的製作方法,具體地說涉及一種單面發光晶片級LED的製作方法。

權利要求

1.《一種單面發光晶片級LED的製作方法》特徵在於,包括如下步驟:S1、提供一模具,所述模具具有型腔和按照規律分布於所述型腔內的模仁;S2、向所述模腔中注入反射層原料,並烘烤使反射層原料固化,得到反射層,所述反射層對應於所述模仁的位置為空白處;S3、將反射層轉移至膠膜層;S4、在所述反射層中的空白處設定LED晶片;S5、向設定有LED晶片的空白處注入螢光膠,並烘烤使螢光膠固化;S6、切割去除LED晶片間多餘的反射層。
2.根據權利要求1所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述步驟S6後還包括烘烤分離膠膜層與反射層的步驟。
3.根據權利要求2所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述模仁的截面圖形為矩形,相鄰兩個模仁之間的間距為0.01-1000毫米。
4.根據權利要求3所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述步驟S2、S5中所述的烘烤溫度為100-150℃,烘烤時間為0.5-5小時。
5.根據權利要求4所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述反射層為白牆膠層,所述白牆膠層的反射率不低於95%,材質為二氧化鈦或硫酸鋇。
6.根據權利要求5所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述膠膜層為熱解膠膜層,烘烤分離膠膜層與反射層的步驟中,烘烤溫度為180-220℃,烘烤時間為2-30分鐘。
7.根據權利要求6所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述模仁與模腔一體成型。
8.根據權利要求7所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述螢光膠由稀土摻雜的無機螢光粉與封裝膠混合製得,所述稀土摻雜的無機螢光粉與封裝膠的質量比為0.1-1:1。
9.根據權利要求8所述的單面發光晶片級LED的製作方法,其特徵在於,所述封裝膠為矽膠、矽樹脂、環氧樹脂或聚氨酯封裝膠。

實施方式

  • 實施例1
該實施例提供一種單面發光晶片級LED的製作方法,其包括如下步驟:S1、提供一模具,所述模具如圖1-2所示,其具有型腔1和按照規律分布與所述型腔1內的模仁2,所述模仁2的截面圖形為矩形,相鄰兩個模仁2之間的間距為0.01毫米,所述模仁2與模腔1一體成型;S2、向所述模腔1中注入反射層原料,所述反射層原料為白牆膠,其反射率不低於95%,材質為二氧化鈦或硫酸鋇,所述反射層原料在模腔1中的高度不超過模仁2的高度,使得反射層原料分布於模仁2的周圍,烘烤使白牆膠固化,得到反射層3(如圖3所示),反射層3中對應於模仁2的位置為空白處4,烘烤固化反射層的過程中,烘烤溫度為100℃,烘烤時間為5小時;S3、將所述反射層3轉移至膠膜層,所述膠膜層為熱解膠膜層;S4、在反射層3中間的空白處4設定LED晶片,所述LED晶片可以為可見光晶片或紫外晶片;S5、向設定有LED晶片的空白處4點注螢光膠,或者採用貼片的方式貼覆螢光膠,使螢光膠包裹所述LED晶片,所述螢光膠由稀土摻雜的無機螢光粉與封裝膠混合製得,其中,稀土摻雜的無機螢光粉為摻雜有Er3+的矽酸鹽螢光粉,封裝膠為矽膠,無機螢光粉與封裝膠的質量比為0.1:1,點注螢光膠後,在150℃下烘烤0.5小時;S6、沿著晶片間的間隙切割,去除晶片間多餘的反射層,保留0.005毫米厚的反射層,得到LED半成品;S7、在180℃下烘烤所述LED半成品30分鐘,降低熱解膠膜的粘度,從而將反射層與熱解膠膜層分離,得到單面發光晶片級LED器件。
  • 實施例2
該實施例提供一種單面發光晶片級LED的製作方法,其包括如下步驟:S1、提供一模具,所述模具如圖1-2所示,其具有型腔1和按照規律分布與所述型腔1內的模仁2,所述模仁2的截面圖形為矩形,相鄰兩個模仁2之間的間距為1000毫米,所述模仁2與模腔1一體成型;S2、向所述模腔1中注入反射層原料,所述反射層原料為白牆膠,其反射率不低於95%,材質為二氧化鈦或硫酸鋇,所述反射層原料在模腔1中的高度不超過模仁2的高度,使得反射層原料分布於模仁2的周圍,烘烤使白牆膠固化,得到反射層3(如圖3所示),反射層3中對應於模仁2的位置為空白處4,烘烤固化反射層的過程中,烘烤溫度為150℃,烘烤時間為0.5小時;S3、將所述反射層3轉移至膠膜層,所述膠膜層為熱解膠膜層;S4、在反射層3中間的空白處4設定LED晶片,所述LED晶片可以為可見光晶片或紫外晶片;S5、向設定有LED晶片的空白處4點注螢光膠,或者採用貼片的方式貼覆螢光膠,使螢光膠包裹所述LED晶片,所述螢光膠由稀土摻雜的無機螢光粉與封裝膠混合製得,其中,稀土摻雜的無機螢光粉為摻雜有Ho3+的氮化物螢光粉,封裝膠為環氧樹脂,無機螢光粉與封裝膠的質量比為1:1,點注螢光膠後,在100℃下烘烤5小時;S6、沿著晶片間的間隙切割,去除晶片間多餘的反射層,保留500毫米厚的反射層,得到LED半成品;S7、在220℃下烘烤所述LED半成品2分鐘,降低熱解膠膜的粘度,從而將反射層與熱解膠膜層分離,得到單面發光晶片級LED器件。
  • 實施例3
該實施例提供一種單面發光晶片級LED的製作方法,其包括如下步驟:S1、提供一模具,所述模具如圖1-2所示,其具有型腔1和按照規律分布與所述型腔1內的模仁2,所述模仁2的截面圖形為矩形,相鄰兩個模仁2之間的間距為260毫米,所述模仁2與模腔1一體成型;S2、向所述模腔1中注入反射層原料,所述反射層原料為白牆膠,其反射率不低於95%,材質為二氧化鈦或硫酸鋇,所述反射層原料在模腔1中的高度不超過模仁2的高度,使得反射層原料分布於模仁2的周圍,烘烤使白牆膠固化,得到反射層3(如圖3所示),反射層3中對應於模仁2的位置為空白處4,烘烤固化反射層的過程中,烘烤溫度為120℃,烘烤時間為2.5小時;S3、將所述反射層3轉移至膠膜層,所述膠膜層為熱解膠膜層;S4、在反射層3中間的空白處4設定LED晶片,所述LED晶片可以為可見光晶片或紫外晶片;S5、向設定有LED晶片的空白處4點注螢光膠,或者採用貼片的方式貼覆螢光膠,使螢光膠包裹所述LED晶片,所述螢光膠由稀土摻雜的無機螢光粉與封裝膠混合製得,其中,稀土摻雜的無機螢光粉為摻雜有Tm3+的l鋁酸鹽螢光粉,封裝膠為聚氨酯,無機螢光粉與封裝膠的質量比為0.6:1,點注螢光膠後,在130℃下烘烤2小時;S6、沿著晶片間的間隙切割,去除晶片間多餘的反射層,保留10毫米厚的反射層,得到LED半成品;S7、在200℃下烘烤所述LED半成品15分鐘,降低熱解膠膜的粘度,從而將反射層與熱解膠膜層分離,得到單面發光晶片級LED器件。

榮譽表彰

2021年8月16日,《一種單面發光晶片級LED的製作方法》獲得安徽省第八屆專利獎優秀獎。

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