edi清洗超純水

半導體行業edi清洗超純水 技術可以概述為4個部分，分別為預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混床部分。在有些半導體廠中，也有用“陰床+陽床”代替電去離子裝置的，主要根據原水水質和產水水質對弱電解質的要求而定，這裡主要探討常用的電去離子工藝。

EDI清洗超純水技術預處理部分

預處理的作用是對原水進行粗加工。提供符合RO進水要求的給水。其主要用來去除原水中的懸浮物、膠體，使SDI≤4;去除游離氯等氧化性物質;去除部分有機物;降低LSI，避免碳酸鹽結垢。
在超純水製造工藝中，傳統預處理方式是“多介質過濾器+活性炭過濾器”。而該半導體製造廠採用了“粗過濾器+超濾裝置”作為超純水系統的預處理部分.主要原因如下：
(1)傳統的預處理過程中SDI值不好控制，一般>5，不利於後續的一級反滲透系統的運行;而超濾裝置的出水SDI值比較穩定(≤1)，能夠有效地保證一級反滲透系統的運行。
(2)傳統的預處理方式占地面積大，而“粗過濾器+超濾裝置”占地面積小，節約了基建費用。
(3)與傳統的預處理方式在更換填料時需要大量的人力和物力相比，超濾裝置的更換比較方便。
(4)近年來，由於超濾技術的不斷成熟，系統能夠穩定安全地運行，而且超濾膜的價格也有了大幅度的降低，在一次性投資和運行維護費用上跟傳統的預處理方式相比差不多。
1、半導體及電子行業-超純水
2、生物及製藥行業-純化水
3、發電廠-鍋爐補給水
4、表面塗裝
5、消費呂及化妝品行業
6、代替各類蒸餾水
7、其它對水的純度要求高的行業
EDI(Eiecterodeionization)又稱連續電除鹽技術，是國際上二十世紀九十年代逐漸興起的純水處理技術，它科學地將電滲析技術和離子交換技術融為一體。
通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用與離子交換樹脂對水中離子交換的作用，在電場的作用下實現水中離子的定向移動，從而達到水的深度淨化除鹽，並通過水電解產生的氧離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生。
所以EDI整個制水過程不需酸、鹼化學藥品再生而連續製取高品質超純水，它具有先進技術、結構合理、操作簡便的優點是綠色環保產品，可廣泛套用於電力、電子、醫藥、化工、電度和食品等，是水處理最先進設備。

反滲透部分

在半導體行業中，反滲透部分多採用雙級反滲透工藝。以確保後續工藝的安全性。通過雙級反滲透，可去除水中超過99%的懸浮物、膠體，98%以上的溶解鹽，大部分的微生物、TOC和部分CO。該半導體製造廠也採用雙級反滲透工藝，同時將雙級反滲透拆分成兩個獨立的部分，這樣就更加有效地保證了系統的連續運行。即使在更換反滲透膜或線上清洗反滲透膜時.也不會造成整個工廠大面積的停水，確保了關鍵部位的連續用水。該半導體廠採取在一級反滲透前增加SBS、MDC加藥裝置。保證了一級反滲透系統的安全運行：在一級反滲透和二級反滲透之間增加一套加鹼裝置，可提高二級反滲透系統的脫鹽率。

電去離子部分

對反滲透出水進行深度脫鹽。最終產水的電阻率能>15MQ·cm。目前市場上比較常用的電去離子深度除鹽裝置模組有兩種類型，分別為EDI模組和CEDI模組。該半導體製造廠採用CEDI模組，同時將CEDI模組分成獨立的兩個部分，在清洗CEDI模組或更換CEDI模組時可以分組進行，不會造成大面積的停水，確保了關鍵部位的連續用水。

拋光混床部分

由於半導體製造行業對超純水的水質要求很高，故在純水箱後輸送管道上增加拋光混床，可保證超純水系統產水的穩定性和一致性。實際套用中基本都是採用雙級拋光混床。