X射線斷層掃描系統

X射線斷層掃描系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2016年7月28日啟用。

基本介紹

• 中文名：X射線斷層掃描系統
• 產地：德國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年7月28日
• 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器

技術指標

X射線源 ：20-100KV,10W,細節探測能力1um。

主要功能

採用微焦點X射線成像原理進行超高解析度三維成像，可以在不破壞樣品的前提下獲得樣品內部詳盡的三維信息，並進行定量分析。