基本介紹
- 中文名：TDC-200膜層控制儀
- 功率顯示： 00.0～99.9%
- 儀器重量： 5.5Kg
- 儀器尺寸： 135 x 480x360mm(高x寬x深)
TDC-200膜層控制儀線上測量和控制鍍膜的速率和膜層的厚度，具有閉環控制沉積速率，與光學控制設備配合使用，可完成複雜的光學鍍膜。本儀器可以控制單層或多層膜的沉積，通過對沉積工藝的數位化控制，大幅提高鍍膜的質量和可重複性。可使用全自動模式來完成複雜膜系的製備，同時又提供了半自動和手動的控制方式，與自動化程度不同的鍍膜設備協同工作。
▲ 配置
TDC-200膜層控制儀可支持標準單探頭、帶擋板單探頭和帶擋板雙探頭。
TDC-200膜層控制儀配備了RS-232工業標準通信接口，配合本公司提供的計算機控制軟體，方便用戶在計算機上進行膜系編程，通過計算機進行數據採集和數據分析，實現遠程控制。用戶也可根據本公司提供的通信協定進行二次開發，在自行設計的軟體中集成測量和控制功能，可方便地實現系統集成。
TDC-200膜層控制儀具有16個獨立輸入/輸出連線埠。具有兩個高精度的源控制電壓輸出，以配合有兩個源的真空鍍膜設備，特別是在進行多層鍍膜時，大大提高了控制精度,進而提高鍍膜質量。
▲ 編程
TDC-200型膜層控制儀採用全中文人機操作界面,易於使用。配備256x128大型圖形點陣LCD，低功耗LED背光，整屏顯示內容多，並支持滾屏，用戶編程和操作方便快捷。
TDC-200膜層控制儀具有5個可程式工藝膜系，每個工藝膜系最多能設定99層，總計495個膜層。包含一個267種材料的材料參數庫，其中已定義的材料為257種，未定義的材料10種，可由用戶自行設定。
▲ 功能
TDC-200膜層控制儀提供給用戶厚度、速度、功率等實時數據，以便用戶可以對實時數據進行分析，並提供速度曲線和功率曲線，通過觀察過程曲線了解鍍膜情況，方便用戶迅速找到最佳的控制工藝。
TDC-200膜層控制儀採用閉環控制技術穩定材料的沉積速率，與光學控制設備配合使用時，可配合光學測量系統測量膜層的光學厚度，用來補償物理厚度和光學厚度之間的偏差，可以滿足複雜的光學鍍膜工藝要求。
在鍍膜過程中，當晶片無效時，TDC-200膜層控制儀能自動設定中斷，並啟動切換程式，控制雙探頭系統，待晶片切換成功後，繼續恢復鍍膜，以確保多層鍍膜工藝連續性。
規格
測量
頻率計算精度 0.03Hz(在6.0MHz)
頻率顯示精度 0.01Hz
測量速率 4Hz
顯示
厚度顯示 000000A～999999A
速率顯示 000.0～999.9 A/s
功率顯示 00.0～99.9%
時間顯示 00:00:00～23:59:59（時:分:秒）
圖形顯示 256x128LCD，低功耗LED背光
存儲能力
膜系 5個
層 每膜系99層，共495層
材料庫 已定義257種材料，用戶可再定義?
10種材料
通訊
通訊接口 標配RS-232串列口
WINDOWS軟體 隨機附帶
控制能力
膜系 5
層/膜系 01～99
源 1～2
坩堝 1～12
探頭規格
標準單探頭
帶擋板單探頭（可選）
帶擋板雙探頭（可選）
探頭數量 可支持2路
源電壓輸出範圍 0～±2.5V
0～±5V
0～±10V
輸出能力 16個繼電器,最大2A
輸入能力 16個隔離通道,可接入交直流
信號
供電要求 220V（±5%），50Hz，功率
≤40W
工作溫度 0℃～50℃
儀器尺寸 135 x 480x360mm(高x寬x
深)，可用於19’標準工業機架
儀器重量 5.5Kg
