Singulus磁控濺射沉積系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2018年10月14日啟用。
基本介紹
- 中文名：Singulus磁控濺射沉積系統
- 產地：德國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2018年10月14日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1、晶圓尺寸：最大為8寸晶圓。 2、12個PVD濺射靶材，靶材直徑100mm。 3、最多4個陰極共濺射。 4、濺射模式：直流、脈衝直流、射頻濺射。 5、2個晶圓腔室，可一次性處理50個晶圓，整個過程可設定全自動並行實現。 6、三個主要腔室，可完成表面刻蝕、多材料物理氣相沉積、自然氧化和真空退火功能。 7、濺射模式分動態和靜態兩種。
主要功能
德國Singlus磁控濺射沉積系統是一台族群式濺射設備，可完成8寸薄膜濺射沉積過程，實現小批量生產，功能包括表面刻蝕、多材料物理氣相沉積、自然氧化和真空退火功能，整個過程由CTC族群式控制器控制。
