PLD真空鍍膜設備

PLD真空鍍膜設備是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2011年5月17日啟用。

基本介紹

• 中文名：PLD真空鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2011年5月17日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

三個高真空腔室獨立運行，最低真空：10^-7Pa，最高溫度：800℃。

主要功能

雷射脈衝沉積方法薄膜沉積。