氣相外延VPE(Vapor Phase Epitaxy)也稱為化學氣相沉澱CVD(Chemical Vapor Deposition)
所謂在某些書籍上所出現的MOVPE其實就是鼎鼎大名的MOCVD,即MOCVD/MOVPE:金屬有機化學氣相沉積系統。
MOCVD 金屬有機物化學氣相澱積(Metal- OrganicChemicalVaporDeposition,簡稱 MOCVD),1968 年由美國洛克威爾公司提出來的一項製備化合物半導體單品薄膜的新技術。該設備集精密機械、半導體材料、真空電子、流體力學、光學、化學、計算機多 學科為一體,是一種自動化程度高、價格昂貴、技術集成度高的尖端光電子專用設備,主要用於GaN(氮化鎵)系半導體材料的外延生長和藍色、綠色或紫外發光 二極體晶片的製造,也是光電子行業最有發展前途的專用設備之一。金屬有機化學氣相沉積系統(MOCVD)是利用金屬有機化合物作為源物質的一種化學氣相澱積(CVD)工藝·
基本介紹
- 中文名:MOVPE
- 外文名:MOVPE
- 學科:化學
- 性質:名詞