光刻技術在半導體積體電路製造工藝中無論是從資金、技術、人員來看，有著舉足輕重的地位，積體電路技術的發展始終是隨著光學光刻技術的不斷創新所推進的,晶片光譜覆蓋紫外全波段265nm 280nm 310nm 340nm 365nm 375nm 385nm 395nm 405nm,LED UV光刻光源。
光刻技術在半導體積體電路製造工藝中無論是從資金、技術、人員來看，有著舉足輕重的地位，積體電路技術的發展始終是隨著光學光刻技術的不斷創新所推進的,晶片光譜覆蓋紫外全波段265nm 280nm 310nm 340nm 365nm 375nm 385nm 395nm 405nm,LED UV光刻光源在積體電路製造領域我們進行了長期的探索和研究，研製開發了系列光刻光源產品，線上性精密掃描曝光和面形整體曝光領域已得到套用,在積體電路製造領域我們進行了長期的探索和研究，研製開發了系列LED UV光刻光源產品，線上性精密掃描曝光和面形整體曝光領域已得到套用，隨著研究進一步深入，LED UV光刻光源會更加完善。
LED UV光刻光源產品優勢：
1、LED UV光譜集中、能量集中
2、專利光學配光，保證光照均勻
3、大功率晶片集成，保證紫外能量充足
4、冷光源照射，熱輻射很小
5、即開即關、無需預熱
6、設計簡潔易集成
7、LED使用壽命長，耗電少，維護和運營成本更低
8、不含汞成分，環保低碳
LED UV光刻光源產品優勢：
1、LED UV光譜集中、能量集中
2、專利光學配光，保證光照均勻
3、大功率晶片集成，保證紫外能量充足
4、冷光源照射，熱輻射很小
5、即開即關、無需預熱
6、設計簡潔易集成
7、LED使用壽命長，耗電少，維護和運營成本更低
8、不含汞成分，環保低碳
