《GMR硬碟磁頭多元複合表面的超精密拋光》是2009年8月出版的圖書，作者是申儒林。
基本介紹
- 書名：GMR硬碟磁頭多元複合表面的超精密拋光
- 作者：申儒林
- ISBN：9787811059403
- 頁數：208（頁）
- 定價：￥26.00（元）
- 出版社：中南大學出版社
- 出版時間：2009-8
- 開本： 32開
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
本書研究了GMR(giant magnetic resistance)硬碟磁頭多元複合表面的拋光機理和拋光技術， 其中包括磁頭、 拋光碟、 拋光液和磨粒四個主要拋光要素之間的相互關係， 拋光碟的加工製作理論與工藝， 材料去除機理， 亞納米級表面粗糙度的形成機理以及極尖凹陷（pole tip recession， 即PTR）的形成與控制機理等， 並研究了在硬碟磁頭拋光中加入超音波和化學作用能的拋光機理和方法， 獲得了亞納米級的表面粗糙度和極尖凹陷。
本書可供從事GMR硬碟磁頭拋光及超精密加工領域工作的科研人員及研究生參考。
圖書目錄
第1章 緒論(1)
1.1 GMR硬碟磁頭及其特點(1)
1.1.1 硬碟存儲技術及磁頭的發展歷程(1)
1.1.2 GMR硬碟磁頭多元複合表面的特點(7)
1.2 GMR硬碟磁頭拋光技術的發展 (14)
1.2.1 GMR硬碟磁頭加工製造的基本過程(14)
1.2.2 GMR硬碟磁頭拋光技術的發展(16)
第2章 硬碟磁頭拋光機的運動學特性(28)
2.1 拋光機的運動形式(28)
2.2 磁頭相對於拋光碟的運動軌跡 (31)
2.3 均勻拋光的參數設定 (48)
第3章 拋光液及磨粒 (64)
3.1 拋光液 (64)
3.2 磨粒 (65)
3.3 自由磨粒的運動模式(69)
第4章 拋光液流場和拋光液膜的承載力(74)
4.1 拋光碟和工件的接觸關係研究 (74)
4.1.1 拋光碟盤面粗糙峰的變形形式(74)
4.1.2 工件和盤面真實接觸面積的估算(75)
4.1.3 磁頭拋光過程合適的膜厚比範圍(78)
4.2 拋光液流場和承載力的研究 (80)
4.2.1 不計盤面粗糙度的拋光液流場分析(80)
4.2.2 計入盤面粗糙度的拋光液流場分析(85)
4.2.3 拋光液膜的承載力分析(90)
第5章 拋光碟的加工製作 (100)
5.1 拋光碟表面性能及加工方法 (100)
5.2 研磨盤的磨粒嵌入(103)
5.2.1 拋光碟磨粒的嵌入工藝(103)
5.3 磨粒嵌入機理(109)
第6章 材料去除機理 (113)
6.1 超精密拋光普遍機理(113)
6.1.1 超精密拋光技術概述 (113)
6.1.2 機械拋光金屬等延性材料的去除機理(114)
6.1.3 機械拋光陶瓷等硬脆材料去除機理(117)
6.1.4 分子動力學在機械拋光機理研究中的套用及其局限性(120)
6.2 磁頭自由磨粒拋光材料去除的研究 (121)
6.2.1 磁頭表面幾種不同拋光形貌的分析(121)
6.2.2 拋光參數與材料去除率 (123)
6.2.3 自由磨粒拋光的材料去除方式 (128)
6.2.4 菱形磨粒拋光的材料去除模型 (131)
6.2.5 菱形磨粒材料去除模型的分析(136)
6.3 納米研磨材料去除的研究(140)
6.3.1 納米研磨的力學特點 (140)
6.3.2 納米研磨的材料去除模型 (142)
第7章 磁頭表面的極尖沉降的形成與控制(148)
7.1 磁頭拋光中的極尖沉降(148)
7.2 極尖沉降的形成機理 (148)
7.3 極尖沉降的控制(151)
7.3.1 自由磨粒拋光中拋光參數對PTR的影響(151)
7.3.2 PTR的控制和消除(154)
第8章 超聲能和化學能在磁頭拋光中的套用研究(157)
8.1 機械拋光的局限性(157)
8.1.1 其他能量用於超精密拋光的研究 (159)
8.2 超音波在硬碟磁頭拋光中的套用研究 (164)
8.2.1 超音波對磁頭表面PTR影響的實驗研究(164)
8.2.2 超音波拋光的作用機理研究 (167)
8.3 硬碟磁頭化學機械拋光的研究 (171)
8.3.1 化學機械拋光機理(171)
8.3.2 化學機械拋光的實驗研究 (175)
8.3.3 磁頭拋光化學機械互動作用的研究(178)
參考文獻(182)
