DE射頻濺射台

DE射頻濺射台是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2010年11月9日啟用。

基本介紹

• 中文名：DE射頻濺射台
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2010年11月9日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

極限真空度＜5*10(-5)Pa,RF600W,DC1500W。

主要功能

DE射頻濺射台。