射頻濺射台是一種用於物理學領域的科學儀器，於2016年2月18日啟用。
基本介紹
- 中文名：射頻濺射台
- 產地：日本
- 學科領域：物理學
- 啟用日期：2016年2月18日
技術指標,主要功能,
技術指標
三腔三靶離子源。
主要功能
射頻濺射台。
射頻濺射台
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