《Ar-NO范德瓦爾斯分子同步輻射光電離研究》是依託中國科學技術大學，由盛六四擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：Ar-NO范德瓦爾斯分子同步輻射光電離研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：盛六四
- 依託單位：中國科學技術大學
- 批准號：10374084
- 研究期限：2004-01-01 至 2006-12-31
- 申請代碼：A2102
- 支持經費：30（萬元）
- 負責人職稱：研究員
中文摘要
研究開殼層分子NO和稀有氣體原子形成的范德瓦爾斯分子，可以了解分子間的相互作用如原子-分子之間的能量轉移、電荷轉移等。利用真空紫外同步輻射對這種范德瓦爾斯分子進行光電離，測得它們的離子出現勢，從得到的光電離效率曲線，推算出它們的電離能和解離能。並結合各種離子的豐度隨光電離能量的變化研究開殼層分子和稀有氣體原子之間是否存在能量和電荷轉移現象。與此同時，我們將對這類范德瓦爾斯絡合物開展理論研究，通過Gaussian-2000計算，最佳化中性絡合物基態和離子絡合物基態的幾何構形，比較實驗和理論計算得出的生成熱、解離能和電離勢等熱化學數據。從基礎研究的角度來講，這類絡合物缺乏真空紫外光化學方面的數據，關於此類研究目前尚未看到。
