308nm準分子光是以氯化氙氣體為照射源的準分子光,可誘導T細胞凋亡,並促進色素的合成,能更準確針對患病皮膚進行治療,且治療時間短 。
基本介紹
- 中文名:308nm準分子光
- 照射源:氯化氙氣體
- 原理:誘導T細胞凋亡
- 治療:時間短
- 波長:308nm
- 特點:療程短、不良反應少等
特點
發光原理
治療原理
常見問題了解
特性
【中文篇名】 | 高氣壓快放電xecl準分子雷射器的放電特性 |
【英文篇名】 | discharge characterastics of high pressure fast discharge xecl excimer laser |
【作者】 | 劉達偉; |
【英文作者】 | liu da-wei (institute of mechanics; academia sinica); |
【作者單位】 | 中國科學院力學研究所; |
【文獻出處】 | 物理學報 , acta physica sinica, 編輯部信箱 1984年 11期 期刊榮譽:中文核心期刊要目總覽 aspt來源刊 中國期刊方陣 cjfd收錄刊 |
【中文關鍵字】 | 放電電漿; 放電電極; 毫微秒; 平均阻抗; 高氣壓; 放電特性; 快放電; 充電電壓; 沉積能量; xecl準分子雷射器; |
【摘要】 | 基於快放電(毫微秒)xecl雷射器電極兩端電壓和電流的精確測量和計算機分析,給出高氣壓(3—8大氣壓力)雷射放電電漿的動態阻抗特性。在幾毫微秒內,阻抗降到歐姆量級。研究了放電峰值電流和平均阻抗與充電電壓和氣體壓力的關係。結果顯示,放電電漿阻抗與傳輸線阻抗精確匹配並不是十分重要和實際的。 |
【英文摘要】 | based on accurate measurements of voltage and current between electrodes of a fast discharge xecl laser, together with computer analyses, the kinetic impedance of gaseous mixture at high pressure of 3 to 8 atmospheres under discharge was obtained. the high impedance droped down to a fraction of ohm within several nanoseconds. the discharge peak currents and corresponding impedances of laser cavity at various charge voltages and gas pressures were studied. the results show that it is impractical and unimport… |
【doi】 | cnki:sun:wlxb.0.1984-11-003 |
【正文快照】 | 作為一種有效的技術,預電離雪崩放電已經成功地套用在高氣體壓力、高輸出功率氣體雷射器中.簡單的結構,相當高的效率以及特別適合於高重複頻率運轉等特性使它在c0:,準分子等氣體器件中得到越來越廣泛的重視和套用.若干電路如blumldn型,l—c反轉型,充電電纜型以及脈衝形成網路 |