棚室保護地栽培黃瓜，進入4月份以後，隨著氣溫逐漸升高，在棚室放風不及時或通風不暢的情況下，棚內溫度有時可高達40～50℃，有時午後可高達50℃以上，對黃瓜生長發育能造成為害，即所謂高溫障礙或大棚熱害。育苗時遇有棚溫高，幼苗出現徒長現象，子葉小，下垂，有時出現花打頂；成苗遇高溫，葉色淺，葉片大且薄，不舒展，節間伸長或徒長。成株期受害葉片上先出現1～2毫米近圓形至橢圓形褪綠斑點，後逐漸擴大，3～4天后整株葉片的葉肉和葉脈自上而下均變為黃綠色，尤其是棚內發病重，植株上部嚴重，嚴重時植株停止生長。
基本介紹
- 中文名：黃瓜高溫障礙
- 病因：溫度高於40℃，土壤含水量少
- 症狀：幼苗出現徒長
- 防治方法：通風換氣，棚溫保持在30℃以下
病因,防治方法,
病因
棚室內溫度高於40℃，土壤含水量少，且持續時間較長，在這種情況下植株生長加快，易瘋長。
防治方法
(1)選用露地2號等耐熱的品種。
(2)加強通風換氣，使棚溫保持在30℃以下，
夜間控制在18℃左右，相對濕度低於85%。生產上有時即使把棚室的門窗全部打開，溫度仍居高不下，這時要把南側的底邊揭開，使棚溫降下來，同時要注意澆水，最好在上午8～10時進行，晚上或陰天不要澆水，同時注意水溫與地溫差應在5℃以內。
(3)黃瓜生育適宜相對濕度為85%左右。棚室相對濕度高於85%時應通風降濕；傍晚氣溫10～15℃左右，通風1～2小時，降低夜間濕度，防止“徒長”，避免高溫障礙。
(4)生產上第一批坐瓜少的易引起徒長，形成生長發育過旺局面。為此，可用保果靈激素l00倍液噴花或點花，即可促進早熟增產又可防止徒長。
(5)施用日本酵素菌漚制的堆肥，採用配方施肥技術，適當增施磷、鉀肥。也可噴施惠滿豐多元複合有機活性液肥，每667平方米320毫升，稀釋500倍，噴葉3次。(6)遇有持續高溫或大氣乾旱，棚室黃瓜蒸發量大，呼吸作用旺盛，這時消耗水分很多，持續時間長就會發生打蔫等情況，這時要適當增加澆水次數。
