高純四甲基錫是一種化學物質,熔點一53}:。沸點78t:。密度L .315};Icm'。
特性
純度少99.999%二在18 --78.9範圍內蒸氣壓方程lgp ( rritr,Hg)二7 .495 1b2U I I'汀鄉熱力學溫度,K;1ramHg二一133.3Ya)、採用精密精餾法和分子蒸餾法提純它是熱力學穩定的可燃液體一用J--製備氧化錫導電薄膜的踢源,作皿一'J族半導體,尤其是(iarl。的n}摻雜源。
高純四甲基錫是一種化學物質,熔點一53}:。沸點78t:。密度L .315};Icm'。