高真空超導薄膜沉積設備是一種用於天文學領域的工藝試驗儀器，於2019年1月13日啟用。
基本介紹
- 中文名：高真空超導薄膜沉積設備
- 產地：中國
- 學科領域：天文學
- 啟用日期：2019年1月13日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1.鍍膜腔極限壓強≤8x10-9Torr；2.電子槍源功率10kW； 3.可裝載6英寸直徑基片；4.配備載入腔。
主要功能
設備所屬項目擬開展基於超導鈦Ti薄膜的TES研製。 由於金屬鈦具有極高的吸附性和化學活性，在常溫下就可以與氧、氮等反應，生成氧化物和氮化物，此外金屬鈦中有少量雜質就會嚴重降低鈦的超導特性甚至致其失超，因此超導鈦薄膜需要在超高真空環境中生長，並保證真空腔內的氮、氧在極低的含量以下，這就對薄膜生長設備提出了嚴苛的要求。
