高壓吸附反應測量系統

高壓吸附反應測量系統是一種用於數學領域的分析儀器，於2012年5月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：高壓吸附反應測量系統
• 產地：德國
• 學科領域：數學
• 啟用日期：2012年5月1日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

最大測量壓力：50 bar（其中：CO2為30 bar,CH4、N2為60 bar）溫度控制範圍：20-500 ℃（水浴不超過100 ℃）樣品量：最多30g測量精度：0.00001 g相對誤差：讀數的0.002%讀數精度：0.00001 g氣體類型：可測量腐蝕性氣體和費腐蝕性氣體的吸附特性。

主要功能

主要通過測量不同的吸附劑和吸收劑對氣體的吸附/脫附性能，用於評定和選擇各類化學工藝需要的合適的吸附劑和吸收劑，完成氣體的吸附分離和淨化。