飛秒雷射三維直寫系統

飛秒雷射三維直寫系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2012年06月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：飛秒雷射三維直寫系統
• 產地：德國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2012年06月20日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

雷射波長：780 nm；雷射功率：120 mW；2D解析度：120 nm；Z軸解析度：1 μm；樣品台移動範圍：100 mm X 100 mm。

主要功能

飛秒雷射三維直寫技術可用來加工多維度、跨尺度的複雜三維微納米結構，在光子晶體、人工超材料、光學微納器件、微機械器件、微流體結構以及生物器件等領域具有廣泛的套用。