面探X射線衍射儀

面探X射線衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2003年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：面探X射線衍射儀
• 用途：金屬及合金材料、半導體及超導材料、化學及塗層材料、人工晶體、聚合物及催化劑、環境材料、高分子材料等領域的分析
• 產地：德國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2003年12月1日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線衍射儀

技術指標

2θ測量範圍:-10°-155°。微區最小測量範圍:直徑50μm。

主要功能

廣泛套用於金屬及合金材料、半導體及超導材料、化學及塗層材料、人工晶體、聚合物及催化劑、環境材料、高分子材料等領域。