《電漿輔助物理氣相沉積》是一款材料科學技術，支持物理氣相沉積技術。
| 中文名稱 | 電漿輔助物理氣相沉積 |
| 英文名稱 | plasma assisted physical vapor deposition |
| 定 義 | 電漿促進的蒸發沉積和濺射沉積等的物理氣相沉積技術。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），半導體材料（二級學科），半導體材料製備（三級學科） |
基本介紹
- 中文名：電漿輔助物理氣相沉積
- 外文名：plasma assisted physical vapor deposition
- 套用學科：材料科學技術
- 性質：物理氣相沉積技術
- 中文名稱
- 電漿輔助物理氣相沉積
- 英文名稱
- plasma assisted physical vapor deposition
- 定 義
- 電漿促進的蒸發沉積和濺射沉積等的物理氣相沉積技術。
- 套用學科
- 材料科學技術（一級學科），半導體材料（二級學科），半導體材料製備（三級學科）
