電漿光譜學,以原子物理學和電漿物理學為基礎的研究電漿光譜的學科。
基本介紹
- 中文名:電漿光譜學
- 釋義:以原子物理學和電漿物理學為基礎的研究電漿光譜的學科
電漿光譜學,以原子物理學和電漿物理學為基礎的研究電漿光譜的學科。
電漿光譜學,以原子物理學和電漿物理學為基礎的研究電漿光譜的學科。主要內容是確定電漿的參量以及這些參量與各種物理過程的聯繫,研究輻射傳輸和能量損失問題,建立可靠的原子參數系統。電漿發射的電磁輻射大部分起源於原子...
電漿·原子發射光譜法plasma-atr}mi} emi},si}a spec-Lrarnetry用電漿餡產生的高溫激發光源作為原子發射光譜的激發光源的一種儀器分析方法。在光譜分析中常用的有高頻等離子炬和電漿噴射源兩種.,套用氫一氧焰高頻等離子炬時...
電漿光譜化學(plasma spectrochemistry)是2014年公布的藥學名詞,出自《藥學名詞》第二版。定義 利用光譜學的原理和實驗技術,並藉助於電漿的理論模型,測量分析電漿光譜的學科。通過測量譜線強度、譜線輪廓以及譜線的分裂、位移...
原子光譜分析,包括光學光譜、X射線譜和質譜分析是檢測無機元素的最佳方法,而電感耦合電漿原子發射光譜(ICP-AES)分析技術,由於既具有原子發射光譜法(AES)的多元素同時測定優點,又具很寬線性範圍,可對主、次、痕量元素成分同時...
《電漿發射光譜分析(第三版)》是2018年化學工業出版社出版的圖書。內容簡介 《電漿發射光譜分析》(第三版)系統介紹了電漿發射光譜(ICP)分析基本原理、儀器性能和在各領域的實際套用,主要內容包括:概述、ICP光源的物理...
ICP電漿發射光譜是一種用於化學、材料科學領域的分析儀器,於2001年12月1日啟用。技術指標 波長範圍:165 - 900nm;解析度: 0.009 nm;雙光學系統;高色散分級光柵;焦距:0.3m。主要功能 能同時檢測樣品中所含元素的種類和含量(...
雷射光譜技術是一門廣泛套用的重要測量檢測方法。光譜分析已套用到原子分子物理、化學反應動力學、電漿診斷、食品檢測等研究、生產和生活領域。低溫電漿處於非熱平衡狀態和具有空間不均勻性,在不同放電形式和放電條件下,不同空間...
《Introduction to Plasma Spectroscopy電漿光譜學導論(影印版)》是2013年北京大學出版社出版的圖書,作者是張麗娟。內容簡介 《電漿光譜學導論(影印版)》是根據給定的在波鴻的魯爾大學的講座研究生和研究生的學生開始他們的電漿...
電漿光源是一 種利用電漿焰產生的高溫激發光源。常用作發射光譜的激發光源和原子吸收光譜的原子化器。由於其溫度高達幾千甚至數萬度,因而能使許多難原子化、難激發的元素都能被測定,且靈敏度大大提高。 在光譜分析中,常用的...
全譜直讀電漿發射光譜儀是一種用於物理學領域的分析儀器,於2000年12月1日啟用。技術指標 波長分辯率(200nm)0.005nm,短期穩定性:RSD 0.5~0.8%。主要功能 火花直讀光譜儀是進行冶煉爐前的線上分析以及中心實驗室的產品檢驗,...
電感藕合電漿原子發射光譜是一種用於冶金工程技術領域的分析儀器,於2008年9月3日啟用。技術指標 採用中階梯光柵和石英稜鏡分光,為全譜直讀電漿原子發射光譜儀;200nm處解析度0.007nm,400nm處解析度0.02nm;儀器短期穩定性RSD%...
《電漿發射光譜分析》是2011年1月1日化學工業出版社出版的圖書,作者是辛仁軒。本書可作為光譜分析技術人員及高等學校分析化學專業的學生及研究生的學習參考用書,也可作為專業培訓班的教材。內容簡介 《電漿發射光譜分析(第2版)》...