電子薄膜用高純銅濺射靶材

《電子薄膜用高純銅濺射靶材》是2013年3月1日實施的一項行業標準。

基本介紹

• 中文名：電子薄膜用高純銅濺射靶材
• 標準號：YS/T 819-2012
• 實施日期：2013-03-01
• 發布日期：2012-11-07
• 技術歸口：全國有色金屬標準化中心
• 批准發布部門：工業和信息化部

起草人

王學澤、宋佳等。

起草單位

寧波江豐電子材料有限公司、有研億金新材料股份有限公司。