運動的帶電粒子進入電場或磁場(粒子運動方向與磁場線方向有夾角)中時,會受到電場或磁場力的作用而使運動方向發生偏轉的現象。
基本介紹
- 中文名:電子束偏轉
- 外文名:Electron beam deflection
- 套用學科:粒子物理、高能物理等
- 適用領域範圍:粒子加速器、螢幕等
運動的帶電粒子進入電場或磁場(粒子運動方向與磁場線方向有夾角)中時,會受到電場或磁場力的作用而使運動方向發生偏轉的現象。
凡是利用垂直於電子束運動方向的電場和磁場使電子束改變方向或發生偏轉的電子光學系統,統稱為電磁偏轉系統 [1] 。電子束偏轉帶電粒子 編輯 帶電粒子在電場和磁場中...
電子經過匯集成束。具有高能量密度。它是利用電子槍中陰極所產生的電子在陰陽極間的高壓(25-300kV)加速電場作用下被加速至很高的速度(0.3-0.7倍光速),經透鏡...
電子束曝光(electron beam lithography)指使用電子束在表面上製造圖樣的工藝,是光刻技術的延伸套用。光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越...
行偏轉線圈通有由行掃描電路提供的鋸齒波電流,產生垂直方向上線性變化的磁場,使電子束作水平方向掃描。場偏轉線圈通有由場掃描電路提供的鋸齒波電流,產生一個水平方...
電子束管(electron beam tube),利用聚焦電子束來實現光、電信號的記錄、存儲、轉換和顯示的真空電子器件。...
電子束重熔冶煉的關鍵技術是電子槍,電子槍中燈絲被加熱後,表面產生大量熱電子,熱電子在高壓電場作用下加速、偏轉、聚焦,向陽極方向高速運動,並獲得很高的動能。...
用來控制電子束偏轉.這些電磁鐵通常裝在外部,近頸位與斗部相 連之處,並由連串經模裝以配合玻璃顯像管形狀的繞組組成.附在 斗部位置作為偏轉器的部件便稱為...
在真空鍍膜設備中, 電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜, 但因其能蒸鍍難熔材料, 膜層純度高, 而優於電阻加熱蒸發源。...
電子束與離子束微細加工是指通過具有一定能量的電子束、離子束與固體表面相互作用來改變固體表面物理、化學性質和幾何結構的精密加工技術。用具有一定能量的電子束照射...
電子束管顯示設備是由電子束管顯示器件為主體而組成。電子束質量極微,易於控制快速偏移。它在管屏上掃過一個光點所需的時間在微秒之內,描畫一個字元僅需幾微秒...
電子槍是產生、加速及會聚高能量密度電子束流的裝置,它發射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的電子束,又稱電子注。電子槍的套用有非彈性電子散射和螢光屏...
真空電子束焊是利用定向高速運動的電子束流撞擊工件使動能轉化為熱能而使工件熔化,形成焊縫。...
電子束熔煉指的是在高真空下將高速電子束流的動能轉換為熱能作為熱源來進行金屬熔煉的一種真空熔煉方法。簡稱EBM。這種熔煉方法具有熔煉溫度高、爐子功率和加熱速度...
電子束加工是利用高能量的會聚電子束的熱效應或電離效應對材料進行的加工。利用電子束的熱效應可以對材料進行表面熱處理、焊接、刻蝕、鑽孔、熔煉,或直接使材料升華...
電子束半導體器件是指利用電子束電流控制半導體中載流子運動來完成各種功能的器件。具有很高的電流增益,而且回響速度快,輸出能力大,並能產生受激發光效應。...
是對聚焦電子束的電信號、存儲、轉換和顯示的控制單元。...... 它利用電場或磁場使電子槍發射的電子聚焦成束,通過電或磁的偏轉系統控制電子束的運動方向,以實現信...
《電子束曝光微納加工技術》是2004年北京工業大學出版社出版的圖書,作者是顧文琪。...... 第五節 電子光住的對中系統第六節 電子束曝光機的偏轉掃描系統...
電子束熔煉(electron beam melting)高真空下,將高速電子束流的動能轉換為熱能作為熱源來進行金屬熔煉的一種真空熔煉方法。簡稱EBM。...
電子束曝光技術是光刻技術的延伸,是指利用某些有機聚合物對電子敏感的特性,將其加工成精細掩模圖形的曝光技術。它是近些年才發展起來的集電子光學,精密機械,超高...
電子光學 electron optics ,研究電子在電磁場中運動和電子束在電磁場中聚焦、成像、偏轉等規律的學科。1926年H.布許發表關於磁聚焦的論文,30年代W.格拉叟和O....
掃描過程中,電子束的開啟與阻斷是由電子束阻斷器(beam blanker)所控制。電子束阻斷器通常安裝在磁透鏡組上方,其功效為產生一大偏轉磁場使電子束完全偏離中軸而無法到...